DB-FIB

Avec les progrès rapides de l'électronique des semi-conducteurs et des technologies des circuits intégrés, la complexité croissante des structures des dispositifs et des circuits a augmenté les exigences en matière de diagnostic des processus de puces microélectroniques, d'analyse des défaillances et de fabrication micro/nano.Le système FIB-SEM à double faisceau, avec ses puissantes capacités d'usinage de précision et d'analyse microscopique, est devenu indispensable dans la conception et la fabrication microélectronique.

Le système FIB-SEM à double faisceauIl intègre un faisceau d'ions focalisés (FIB) et un microscope électronique à balayage (MEB). Il permet l'observation MEB en temps réel des procédés de micro-usinage par FIB, alliant la haute résolution spatiale du faisceau d'électrons aux capacités de traitement de précision des matériaux du faisceau d'ions.